光刻机

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  日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米、价格便宜30％

  12月10日消息，尼康宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。 据悉，尼康这款曝光机采用增强型iA…

  2023-12-10

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